OD380*23mm Manyetik Olmayan Toksik Olmayan Titanyum Hedefler

Titanyum hedef Gr2 ASTM B381-06 a OD380*23 Püskürtme Hedef Püskürtme Malzemeler Hedef Püskürtme

Kaplama hedefi, uygun teknolojik koşullar altında magnetron püskürtme, çok arklı iyon kaplama veya diğer kaplama sistemleri ile alt tabaka üzerinde çeşitli fonksiyonel filmler oluşturan bir püskürtme kaynağıdır.Basitçe söylemek gerekirse, hedef malzeme, yüksek hızlı yüklü parçacık bombardımanının hedef malzemesidir.Yüksek enerjili lazer silahlarında kullanıldığında, farklı güç yoğunlukları, farklı çıkış dalga biçimleri ve farklı dalga boylarındaki lazerler farklı hedeflerle etkileşime girerek farklı öldürme ve imha etkileri üretecektir.Örneğin, buharlaşmalı magnetron püskürtme kaplama, ısıtılmış buharlaşma kaplaması, alüminyum film vb. , aşınmaya dayanıklı, korozyona dayanıklı alaşım film, vb.).

Islak kaplama teknolojisi ile karşılaştırıldığında, vakumlu kaplama teknolojisi aşağıdaki avantajlara sahiptir:
(1) ince filmler ve alt tabakalar geniş bir malzeme yelpazesine sahiptir ve çeşitli işlevlere sahip fonksiyonel filmler hazırlamak için film kalınlığı kontrol edilebilir.
(2) vakum altında ince filmler hazırlamak, temiz ortam ve ince filmler kolayca kirlenmez.Bu nedenle, iyi yoğunlukta, yüksek saflıkta ve düzgün kaplamalı filmler elde edilebilir.
(3) film ve alt tabaka arasındaki bağlanma kuvveti iyidir ve film sağlamdır.
(4) kuru kaplama atık sıvı veya çevre kirliliği oluşturmaz.
Vakum kaplama teknolojisi esas olarak vakumlu buharlaştırma, vakumlu püskürtme, vakumlu iyon kaplama, vakumlu ışın biriktirme, kimyasal buhar biriktirme vb.Kimyasal buhar biriktirmeye ek olarak, diğer yöntemler aşağıdaki ortak özelliklere sahiptir:
(1) Her türlü kaplama teknolojisi, ısıtma buharlaştırma veya püskürtme işleminde oluşan buhar moleküllerinin atmosferdeki çok sayıda gaz molekülü tarafından vurulmaması, bloke edilmemesi ve müdahale edilmemesi için hareket etmesini sağlamak için belirli bir vakum ortamı gerektirir, ve atmosferdeki kirliliklerin zararlı etkilerini ortadan kaldırmak.
(2) tüm kaplama teknolojileri, buharlaşma filminin malzemelerini gaza dönüştürmek için bir kaynak veya hedef gerektirir.Kaynak veya hedefin sürekli iyileştirilmesi nedeniyle, film yapım malzemelerinin seçim aralığı büyük ölçüde genişletildi.Metal, metal alaşımları, intermetalik bileşikler, seramikler veya organik malzemeler çeşitli metal filmler ve dielektrik filmler ile buharlaştırılabileceği gibi, farklı malzemelerin aynı anda buharlaştırılmasıyla da elde edilebilir.
(3) buharlaşan veya püskürtülen film yapım malzemeleri, film kalınlığının tekdüzeliğini sağlamak için kaplanacak iş parçası ile ince filmler oluşturma sürecinde doğru bir şekilde ölçülebilir ve kontrol edilebilir.
(4) her film, bir ince ayar valfi vasıtasıyla kaplama odasındaki artık gazın bileşimini ve kütle fraksiyonunu doğru bir şekilde kontrol edebilir, böylece buharlaşan malzemenin oksidasyonunu önler, oksijenin kütle fraksiyonunu minimuma indirir ve inert gazı doldurur. , ıslak kaplama için imkansızdır.
(5) kaplama ekipmanının sürekli iyileştirilmesi nedeniyle, kaplama işlemi sürekli olarak gerçekleştirilebilir, böylece ürünün çıktısını büyük ölçüde iyileştirir ve üretim sürecinde çevreye hiçbir kirlilik olmaz.
(6) film vakumda yapıldığı için filmin saflığı yüksektir, yoğunluğu iyidir ve yüzey işlenmeden parlaktır.Bu, filmin mekanik ve kimyasal özelliklerini elektro-çökeltilmiş film ve kimyasal filmden daha iyi hale getirir.

1. Düşük Yoğunluk ve Yüksek Spesifikasyon Mukavemeti
2. Mükemmel Korozyon Direnci
3. Isı Etkisine Karşı İyi Direnç
4. Kriyojenik Mülkiyete Mükemmel Rulman
5. Manyetik Olmayan ve Toksik Olmayan
6. İyi Termal Özellikler
7. Düşük Elastisite Modülü