133mm*125mm*840mm Titanyum Dikişsiz Boru Hedef Korozyon Direnci

Titanyum Tüp Hedef Vakum Kaplama Hedef 133OD*125ID*840 Dikişsiz Tüp ASTM B861-06 a

Kaplama hedefi, uygun teknolojik koşullar altında magnetron püskürtme, çok arklı iyon kaplama veya diğer kaplama sistemleri ile alt tabaka üzerinde çeşitli fonksiyonel filmler oluşturan bir püskürtme kaynağıdır.Basitçe söylemek gerekirse, hedef malzeme, yüksek hızlı yüklü parçacık bombardımanının hedef malzemesidir.Yüksek enerjili lazer silahlarında kullanıldığında, farklı güç yoğunlukları, farklı çıkış dalga biçimleri ve farklı dalga boylarındaki lazerler farklı hedeflerle etkileşime girerek farklı öldürme ve imha etkileri üretecektir.Örneğin, buharlaşmalı magnetron püskürtme kaplama, ısıtılmış buharlaştırma kaplama, alüminyum film vb. Farklı hedef malzemeleri (alüminyum, bakır, paslanmaz çelik, titanyum, nikel hedef vb. , aşınmaya dayanıklı, korozyon önleyici alaşım film, vb.)
Son yıllarda, düz panel ekran (FPD), katot ışın tüpünün (CRT) hakim olduğu bilgisayar monitörü ve TV pazarını büyük ölçüde etkiledi ve bu da ITO hedef malzemesinin teknolojisini ve pazar talebini yönlendirecek.Bugün iki tür iTO hedefi var.Biri indiyum oksit ve kalay oksit tozunun nanometre halinde karıştırılmasıyla sinterlenir, diğeri ise indiyum kalay alaşımlı hedef ile sinterlenir.İTO filmleri, indiyum-kalay alaşımlı hedefler üzerinde doğru akım reaktif püskürtme ile hazırlanabilir, ancak hedef yüzey oksitlenecek ve püskürtme hızı etkilenecektir ve büyük boyutlu altın hedefi elde etmek zordur.Günümüzde, ilk yöntem genellikle L}IRF reaktif püskürtme kaplama kullanılarak ITO hedef materyali üretmek için benimsenmiştir.Hızlı bir birikim oranına sahiptir.Ve filmin kalınlığını, yüksek iletkenliği, filmin iyi kıvamını, alt tabakaya güçlü yapışmayı ve diğer avantajları doğru bir şekilde kontrol edebilir.Ancak indiyum oksit ve kalay oksit birlikte kolayca sinterlenmediği için hedef yapmak zordur.Sinterleme katkı maddesi olarak genellikle ZrO2, Bi2O3 ve CeO kullanılır ve yoğunlukları teorik değerin %93~98'i kadar olan hedef malzemeler elde edilebilir.Bu şekilde oluşturulan ITO filmlerinin performansı büyük ölçüde katkı maddeleri ile ilgilidir.Japon bilim adamları, Bizo'yu katkı maddesi olarak kullandılar ve Bi2O3 820Cr'de eridi ve sinterleme sıcaklığının L500 ℃ ötesinde bir kısmı buharlaştı, böylece sıvı faz sinterleme koşulları altında nispeten saf ITO hedefi elde edilebildi.Ve oksit hammaddesi, erken süreci basitleştirebilen nanoparçacıklar olmak zorunda değildir.Chuan gibi hedefler kullanılarak elde edilen ITO filminin özdirenci, saf ITO filminin özdirencine yakın olan 8.1 × 10n-cm'dir.FPD ve iletken camın boyutu oldukça sıcaktır ve iletken camın genişliği 3133_'e bile ulaşabilir.Hedefin kullanım oranını arttırmak için silindirik gibi farklı şekillerde İTO hedefleri geliştirilmiştir.2000 yılında, Devlet Kalkınma Planlama Komisyonu ve Bilim ve Teknoloji Bakanlığı, Mevcut Kalkınmaya Öncelikli Bilgi Endüstrisinin Temel Alanları Rehberine ITO'nun büyük hedeflerini dahil etti.

Özellikleri

1. Düşük yoğunluk ve yüksek mukavemet
2. Müşterilerin istediği çizimlere göre özelleştirilmiş
3. Güçlü korozyon direnci
4. Güçlü ısı direnci
5. Düşük sıcaklık direnci
6. Isı direnci